浙商证券电子：本周光刻机动态跟踪

动态1⃣：林本坚信，中芯国际有可能推进下一代5nm工艺 事件:10月27日上午，北京时间，彭博社文章《US Can’t Halt SMIC, Huawei’s Tech Advances, Chip Guru Says 》在最近的一次采访中，浸没式光刻之父、前台积电副总裁林本坚表示，通过使用已经使用的ASML设备，中芯国际应该能够将其推广到下一代5nm工艺。除了试图达到5nm，中国还可以尝试使用新材料或先进的包装来制造更强大的半导体。 分析：过去，台积电大规模生产DUV光刻机的工艺极限为7nm，而EUV光刻机可以以更低的成本和更高的效率生产7nm及以下的芯片。因此，过去没有一家公司使用DUV光刻机来实现5nm工艺。

动态2⃣：华虹(无锡)二期设备订单在上海微电子中标 事件:华虹(无锡)二期在上海微电子中标，中标结果于10月11日公布。 分析:经必网信息核对，项目编号:0705-234023603809，此前招标公示的内容是7台激光退火设备，而不是光刻机。

动态3⃣：上海微电子光刻机专利进展 事件:10月27日，上海微电子申请光刻投影物镜发明专利进入公示期，2022年4月12日，2023年10月27日， 本专利旨在“降低光刻投影物镜的设计成本和制造周期，同时提高光刻投影物镜的像质校正能力，进而提高曝光成像的质量，本发明还提供了一种光刻机，以实现更小的曝光分辨率和CDU。该专利为发明专利，实际生产应用改进需要进一步跟踪行业反馈。

光刻工艺产业链核心公司：

光刻整机:张江高科(参股) 光学

系统：波长/茂莱/福晶：

光刻件:富创/新莱/电科

光刻胶:华茂(博康)/桐程/南大

掩模版：路维/清溢/冠石