Q: 下面我说一说南大光电的逻辑，在光刻机技术实现突破以后，整个产业结构将会面临巨大的调整，高端芯片国产替代将是一个长期的趋势，同时，南大光电完成了前期产品验证与产能建设，而利润尚在底部区间。
A:要点
1. 光刻机技术突破带来的产业结构调整：光刻机技术的突破可能会改变整个芯片制造产业的格局。如果中国能够自主生产高端光刻机设备，将减少对进口设备的依赖，从而提高国内芯片制造的自主能力。这将推动国内高端芯片的生产和应用，形成替代进口芯片的趋势。
2. 高端芯片国产替代的长期趋势：随着中国在光刻机技术上的突破，国内芯片制造能力将得到提升，高端芯片的研发和生产将更加便利。这将推动国内芯片产业的发展，逐渐替代进口芯片的地位。由于高端芯片具有较高的附加值和利润空间，这一趋势可能会持续较长时间。
3. 南大光电的产能建设和利润底部区域：南大光电作为一家光刻机设备制造商，已经完成了产能建设，具备一定的生产能力。由于光刻机技术突破可能带来的需求增长，南大光电有望受益于行业的发展。利润底部区域的观点可能是基于目前市场环境和竞争状况的分析。
Q: 这里所说的光刻机技术的突破，是一种全面的突破，由国产芯片的国产替代，带动了芯片制造设备的增长，体现在供需关系及表现上，，高端光刻胶量价齐升，抓的就是这个时间点。
A: 光刻机技术的突破确实可以带动芯片制造设备的需求，并且可能会带来一系列的影响，包括高端光刻胶的需求增加和价格上涨等。如果中国能够自主研发和生产高端光刻机设备，将减少对进口设备的依赖，从而提高国内芯片制造的自主能力。这将推动国内高端芯片的生产和应用，形成替代进口芯片的趋势。
在这个时间点上，抓住高端光刻胶需求上升的机会，可以是一个战略上的选择。随着光刻机技术的突破和国产芯片的替代趋势，对高端光刻胶的需求可能会增加，从而推动其价格上涨。因此，抓住这个时间点，投资和生产高端光刻胶可能会带来较好的回报。

。。（制造光刻机企业，恰恰需要进入高投入阶段，利润上并不能马上体现。不能确定的是，南大光电似乎有自己的小心思）

以上是基于光刻机技术全面突破作出的判断：
光刻机一直被西方描述得极其神秘，但实际上，中国长春光机所在2017年就推出了EUV光刻机的原理样机；而在2023年4月，他们又正式推出了工程样机。除了手机以外，DUV光刻机的物美价廉使其应用领域更加广泛。

尽管光刻机被西方吹嘘得神乎其神，但它实际上是一个已经商业化的产品，其专利是公开的。制造光刻机并不困难，各方都明白封锁是没有意义的，但是他们又必须去做，这是一个知其不可为而为之的情况。

光刻机的原理早已被弄清楚，技术路线也十分明确。产品不断升级并形成了相关产业链，因此光刻机从来不是技术问题，而是如何绕过一堆专利并找到具有商业价值的技术路线的问题。这个事情只能由政府来做，任何一个企业甚至国家都负担不起。

对于中国这样规模最大、品类最齐全的制造业超级大国来说，在光刻机领域找到具有商业价值的技术路线只是一个时间问题。只要政府愿意付出代价，采取多种技术路线并行的方式，假以时日，技术和高端产品的封锁与反封锁必然会逐渐被打破，并带来全方位的突破和超越。这将对欧美现有产业产生巨大冲击。

西方在光刻机领域对中国进行全方位的技术和产品的封锁，总体来说得不偿失，弊大于利，且于事无补，但它们又不得不这样做。汽车产业是欧美最大的制造业，在中国通过新能源汽车技术实现反超后，芯片产业链成为欧美硕果仅存的、也是利润最丰厚的制造业了。第四次产业革命