一. 光刻机概览

光刻为集成电路制造关键环节，是指在特定波长光线的作用下，将设计在掩膜版上的集成电路图形转移到硅片表面的光刻胶上的技术工艺。

光刻机是芯片制造光刻环节的核心设备，技术含量、价值含量极高。

光刻机制造难度极高，以一台ASML EUV光刻机为例，由来自全球近800家供应商的数十万个零件组成，每个模块在ASML遍布全球的工厂中生产，再运往荷兰总部组装。

光刻机集精密光学、机械和控制等众多最尖端技术于一身，包括光源系统、照明系统、投影物镜系统、双工件台系统、以及传输系统、调平调焦系统、对准系统等。

二. 光刻机国产进程

2023年初美日荷三国会晤，计划联合制裁。3月8日荷兰公告拟对华限制出口最先进的DUV光刻设备，6月30日正式出台管制措施。

EUV长期被限，2024年高端浸没式也将断供。我国光刻机仍受制于人，仍是卡脖子最关键 环节，实现高端光刻机的国产替代至关重要。

我国光刻机攻尖采取类ASML的模式，细分各科研院所、高校做分系统，再由SMEE进行整机组装。中科院微电子所、长光所、上光所，清华大学、浙江大学、哈工大等均参与光刻机的研发。

上海微电子已完成90nm光刻机出货，并加快浸没式设备研发。

三. 光刻机国内零部件厂商

3.1 激光光源

（1）光学元件：茂莱光学、腾景科技、炬光科技、晶方科技。

（2）光学镜头：奥普光电、福光股份、波长光电。

（3）光源：科益虹源、福晶科技。

（4）清洗设备：蓝英装备。

3.2 结构件

（1）结构部件：富创精密、联合精密、电科数字。

3.3 物镜系统

（1）物镜：赛微电子、国科精密。

3.4 双工作台和沉浸系统

（1）光掩膜版：华润微、路维光电、清溢光电。

（2）涂胶显影：芯源微

作者：伏白的交易笔记